Til at begynde med skal du bruge en GDMS-rapport (Glow Discharge Mass Spectrometry). Den kan bruges til at lave et foreløbigt skøn over den teoretiske renhed af silica (SiO₂). Man skal dog være opmærksom på følgende vigtige begrænsninger og beregningsmetoder:

GDMS-rapport
1. Eksempel på metode til estimering af SiO₂-renhed
(1) Direkte beregningsmetode (metode til fradrag af hovedkomponenter)
Antagelse:
Hovedkomponenten i kvartsrøret er SiO₂, og alle andre elementer betragtes som urenheder.
Formel:
SiO₂-renhed ≈ 100% - Σ (indhold af alle urenheder)
Beregningstrin:
- Uddrag fra rapporten indholdet af alle andre urenheder end ilt og silicium (i ppm efter vægt).
- Læg indholdet af urenheder sammen for at få det samlede indhold af urenheder.
- Træk den samlede urenhedsprocent (ppm ÷ 10.000) fra 100%.
(2) Faktisk beregning (baseret på rapportdata)
Bestem den samlede mængde af påviste urenheder (enhed: ppm):
Li (0,16) + B (1,1) + Na (0,29) + Mg (0,05) + Al (11) + Ti (3,4) + K (0,58) + andre øvre grænser (f.eks. Fe <0,5, Cr <0,5 ...)
≈ 0,16 + 1,1 + 0,29 + 0,05 + 11 + 3,4 + 0,58 + 0,5 (Fe) + 0,5 (Cr) + 0,05 (Ni) + 0,1 (Cu) + 1 (Ca)
≈ 18,73 ppm (konservativt skøn, beregnet ved hjælp af øvre grænser)
SiO₂ Renhed:
100% - (18,73 ÷ 10.000) = 99.8127%
(3) Korrektionsfaktorer
- Uopdagede elementer: Elementer markeret med "-" i rapporten (såsom Au, Hg osv.) kan være under instrumentets detektionsgrænse, men tælles ikke med i de samlede urenheder.
- Iltindholdet er ikke kvantificeret: Rapporten markerer kun ilt som en "hovedkomponent", men i faktisk SiO₂ udgør ilt 53,2% af sammensætningen (korrektion af det støkiometriske forhold er påkrævet).
2. Konklusion på renhedsevaluering
- Konservativ renhed: ≥ 99,81% (beregnet ved hjælp af de øvre grænser for GDMS-opdagede urenheder)
- Den faktiske renhed kan være højere: Hvis nogle elementer er langt under deres øvre grænser (f.eks. er Fe kun 0,1 ppm), kan renheden nå op på 99.9%.
3. Vigtige begrænsninger og overvejelser
(1) Begrænsninger ved GDMS-metoden
- Semi-kvantitative data: For eksempel kan Fe <0,5 ppm faktisk være 0,1 ppm eller 0,01 ppm, hvilket kan påvirke renhedsberegningen betydeligt.
- Mangler lyselementer: GDMS har en svag detektionskapacitet for lette elementer som C og H, hvilket kan føre til en undervurdering af de samlede urenheder (f.eks. hydroxyl OH- ikke detekteret).
(2) Sammenligning med industristandarder
Materialekvalitet | Typisk krav til SiO₂-renhed | Estimeret renhed fra GDMS | Opfylder standarden |
---|---|---|---|
Kvarts af industriel kvalitet | ≥99.5% | 99.81% | ✅ Ja |
Kvarts af fotovoltaisk kvalitet | ≥99.9% | Tæt på, men usikkert | ⚠ ICP-MS-verifikation nødvendig |
Kvarts af halvlederkvalitet | ≥99.99% | Ikke opnået | ❌ Nej |
4. Anbefalinger for anvendelse af materialet
- Industriel/almen brug: En renhed på 99,8% er tilstrækkelig og kan bruges direkte.
- Anvendelse af fotovoltaik/halvledere:
- Brug ICP-MS til at bekræfte, om kritiske metalliske urenheder (Fe, Na osv.) virkelig er under 0,1 ppm.
- Suppler med FTIR-test for at bestemme hydroxylindholdet (OH- < 5 ppm).
Resumé:
Dette materiale hører til kvarts af høj renhed i industriel kvalitet, men opfylder ikke kravene til halvlederkvalitet (4N5 eller 5N).
Beslutningsgrundlag:
Hvis kundens proces er følsom over for Fe/Na-forurening (f.eks. PERC-solceller), bør man prioritere at verificere de faktiske urenhedsniveauer.