Jak obliczyć czystość krzemionki (SiO₂) w materiałach kwarcowych?

Na początek potrzebny będzie raport GDMS (Glow Discharge Mass Spectrometry). Można go wykorzystać do wstępnego oszacowania teoretycznej czystości krzemionki (SiO₂). Należy jednak pamiętać o następujących kluczowych ograniczeniach i metodach obliczeniowych:

Dane GDMS
Raport danych GDMS

Raport GDMS

1. Przykładowa metoda szacowania czystości SiO₂

(1) Metoda bezpośrednich obliczeń (metoda odliczenia głównego składnika)

Założenie:
Głównym składnikiem rurki kwarcowej jest SiO₂, a wszystkie inne elementy są uważane za zanieczyszczenia.

Formuła:
Czystość SiO₂ ≈ 100% - Σ (zawartość wszystkich zanieczyszczeń)

Kroki obliczeniowe:

  1. Wyodrębnić z raportu zawartość wszystkich zanieczyszczeń innych niż tlen i krzem (w ppm wagowo).
  2. Zsumować zawartość zanieczyszczeń, aby uzyskać całkowitą zawartość zanieczyszczeń.
  3. Odjąć całkowitą wartość procentową zanieczyszczenia (ppm ÷ 10 000) od 100%.

(2) Rzeczywiste obliczenia (na podstawie danych z raportu)

Określić całkowitą ilość wykrytych zanieczyszczeń (jednostka: ppm):

Li (0,16) + B (1,1) + Na (0,29) + Mg (0,05) + Al (11) + Ti (3,4) + K (0,58) + inne górne limity (np. Fe <0,5, Cr <0,5...)

≈ 0,16 + 1,1 + 0,29 + 0,05 + 11 + 3,4 + 0,58 + 0,5 (Fe) + 0,5 (Cr) + 0,05 (Ni) + 0,1 (Cu) + 1 (Ca)

18,73 ppm (ostrożne szacunki, obliczone przy użyciu górnych limitów)

SiO₂ Czystość:
100% - (18,73 ÷ 10 000) = 99.8127%


(3) Współczynniki korygujące

  • Niewykryte elementy: Pierwiastki oznaczone jako "-" w raporcie (takie jak Au, Hg itp.) mogą znajdować się poniżej granicy wykrywalności urządzenia, ale nie są wliczane do całkowitej ilości zanieczyszczeń.
  • Zawartość tlenu nie została określona ilościowo: W raporcie oznaczono tylko tlen jako "główny składnik", ale w rzeczywistym SiO₂ tlen stanowi 53,2% jego składu (wymagana jest korekta współczynnika stechiometrycznego).

2. Ocena czystości Wnioski

  • Konserwatywna czystość: ≥ 99,81% (obliczone przy użyciu górnych granic wykrytych zanieczyszczeń GDMS)
  • Rzeczywista czystość może być wyższa: Jeśli niektóre pierwiastki są znacznie poniżej swoich górnych limitów (np. Fe wynosi tylko 0,1 ppm), czystość może osiągnąć 99.9%.

3. Kluczowe ograniczenia i rozważania

(1) Ograniczenia metody GDMS

  • Dane półilościowe: Na przykład Fe <0,5 ppm może w rzeczywistości wynosić 0,1 ppm lub 0,01 ppm, co może znacząco wpłynąć na obliczenia czystości.
  • Brakujące elementy świetlne: GDMS ma słabą zdolność wykrywania lekkich pierwiastków, takich jak C i H, co może prowadzić do niedoszacowania całkowitej ilości zanieczyszczeń (np. nie wykryto hydroksylu OH-).

(2) Porównanie ze standardami branżowymi

Klasa materiałuTypowe wymagania dotyczące czystości SiO₂Czystość oszacowana na podstawie GDMSSpełnia normę
Kwarc klasy przemysłowej≥99.5%99.81%Tak
Kwarc klasy fotowoltaicznej≥99.9%Blisko, ale niepewniePotrzebna weryfikacja ICP-MS
Kwarc klasy półprzewodnikowej≥99.99%Nie osiągniętoNie

4. Zalecenia dotyczące stosowania materiału

  • Zastosowanie przemysłowe/ogólne: Czystość 99,8% jest wystarczająca i może być używana bezpośrednio.
  • Zastosowanie fotowoltaiczne/półprzewodnikowe:
    • Użyj ICP-MS, aby potwierdzić, czy krytyczne zanieczyszczenia metaliczne (Fe, Na itp.) są rzeczywiście poniżej 0,1 ppm.
    • Uzupełnić testami FTIR w celu określenia zawartości hydroksylu (OH- < 5 ppm).

Podsumowanie:
Materiał ten należy do kwarcu przemysłowego o wysokiej czystości, ale nie spełnia wymagań klasy półprzewodnikowej (4N5 lub 5N).

Podstawa decyzji:
Jeśli proces klienta jest wrażliwy na zanieczyszczenia Fe/Na (np. ogniwa słoneczne PERC), priorytetem powinna być weryfikacja rzeczywistych poziomów zanieczyszczeń.

pl_PLPolish
滚动至顶部