Na początek potrzebny będzie raport GDMS (Glow Discharge Mass Spectrometry). Można go wykorzystać do wstępnego oszacowania teoretycznej czystości krzemionki (SiO₂). Należy jednak pamiętać o następujących kluczowych ograniczeniach i metodach obliczeniowych:

Raport GDMS
1. Przykładowa metoda szacowania czystości SiO₂
(1) Metoda bezpośrednich obliczeń (metoda odliczenia głównego składnika)
Założenie:
Głównym składnikiem rurki kwarcowej jest SiO₂, a wszystkie inne elementy są uważane za zanieczyszczenia.
Formuła:
Czystość SiO₂ ≈ 100% - Σ (zawartość wszystkich zanieczyszczeń)
Kroki obliczeniowe:
- Wyodrębnić z raportu zawartość wszystkich zanieczyszczeń innych niż tlen i krzem (w ppm wagowo).
- Zsumować zawartość zanieczyszczeń, aby uzyskać całkowitą zawartość zanieczyszczeń.
- Odjąć całkowitą wartość procentową zanieczyszczenia (ppm ÷ 10 000) od 100%.
(2) Rzeczywiste obliczenia (na podstawie danych z raportu)
Określić całkowitą ilość wykrytych zanieczyszczeń (jednostka: ppm):
Li (0,16) + B (1,1) + Na (0,29) + Mg (0,05) + Al (11) + Ti (3,4) + K (0,58) + inne górne limity (np. Fe <0,5, Cr <0,5...)
≈ 0,16 + 1,1 + 0,29 + 0,05 + 11 + 3,4 + 0,58 + 0,5 (Fe) + 0,5 (Cr) + 0,05 (Ni) + 0,1 (Cu) + 1 (Ca)
≈ 18,73 ppm (ostrożne szacunki, obliczone przy użyciu górnych limitów)
SiO₂ Czystość:
100% - (18,73 ÷ 10 000) = 99.8127%
(3) Współczynniki korygujące
- Niewykryte elementy: Pierwiastki oznaczone jako "-" w raporcie (takie jak Au, Hg itp.) mogą znajdować się poniżej granicy wykrywalności urządzenia, ale nie są wliczane do całkowitej ilości zanieczyszczeń.
- Zawartość tlenu nie została określona ilościowo: W raporcie oznaczono tylko tlen jako "główny składnik", ale w rzeczywistym SiO₂ tlen stanowi 53,2% jego składu (wymagana jest korekta współczynnika stechiometrycznego).
2. Ocena czystości Wnioski
- Konserwatywna czystość: ≥ 99,81% (obliczone przy użyciu górnych granic wykrytych zanieczyszczeń GDMS)
- Rzeczywista czystość może być wyższa: Jeśli niektóre pierwiastki są znacznie poniżej swoich górnych limitów (np. Fe wynosi tylko 0,1 ppm), czystość może osiągnąć 99.9%.
3. Kluczowe ograniczenia i rozważania
(1) Ograniczenia metody GDMS
- Dane półilościowe: Na przykład Fe <0,5 ppm może w rzeczywistości wynosić 0,1 ppm lub 0,01 ppm, co może znacząco wpłynąć na obliczenia czystości.
- Brakujące elementy świetlne: GDMS ma słabą zdolność wykrywania lekkich pierwiastków, takich jak C i H, co może prowadzić do niedoszacowania całkowitej ilości zanieczyszczeń (np. nie wykryto hydroksylu OH-).
(2) Porównanie ze standardami branżowymi
Klasa materiału | Typowe wymagania dotyczące czystości SiO₂ | Czystość oszacowana na podstawie GDMS | Spełnia normę |
---|---|---|---|
Kwarc klasy przemysłowej | ≥99.5% | 99.81% | Tak |
Kwarc klasy fotowoltaicznej | ≥99.9% | Blisko, ale niepewnie | Potrzebna weryfikacja ICP-MS |
Kwarc klasy półprzewodnikowej | ≥99.99% | Nie osiągnięto | Nie |
4. Zalecenia dotyczące stosowania materiału
- Zastosowanie przemysłowe/ogólne: Czystość 99,8% jest wystarczająca i może być używana bezpośrednio.
- Zastosowanie fotowoltaiczne/półprzewodnikowe:
- Użyj ICP-MS, aby potwierdzić, czy krytyczne zanieczyszczenia metaliczne (Fe, Na itp.) są rzeczywiście poniżej 0,1 ppm.
- Uzupełnić testami FTIR w celu określenia zawartości hydroksylu (OH- < 5 ppm).
Podsumowanie:
Materiał ten należy do kwarcu przemysłowego o wysokiej czystości, ale nie spełnia wymagań klasy półprzewodnikowej (4N5 lub 5N).
Podstawa decyzji:
Jeśli proces klienta jest wrażliwy na zanieczyszczenia Fe/Na (np. ogniwa słoneczne PERC), priorytetem powinna być weryfikacja rzeczywistych poziomów zanieczyszczeń.